2025年新春伊始，御微半導體技術有限公司自主研發的國內首臺滿足90nm以上制程掩模圖形缺陷檢測設備Raptor-500正式發運并交付國內領先掩模版制造廠商。該設備的成功交付，標志著御微半導體在核心檢測設備領域實現關鍵突破，為成熟制程掩模質量控制提供極具競爭力的國產化解決方案。

破解“絕對零缺陷”難題，守護半導體制造“母版”

掩模版，又稱“光罩”或“Photomask”，是集成電路光刻工藝的“母版”，其質量直接影響晶圓良率。單個掩模圖形缺陷即可導致整批晶圓報廢，因此掩模版圖形缺陷檢測設備需實現關鍵缺陷100%的檢出率。Raptor-500基于御微在高精密半導體光學設備領域的技術積淀，創新融合“高分辨率透射+反射雙光路同步紫外成像技術”,“納米級運動控制技術“及”超大規模圖像計算技術 ”，可精準識別掩模版制造及光刻工藝使用周期中的圖形缺陷與污染物，滿足掩模廠與晶圓廠的全鏈條質控需求。

御微半導體首臺掩模版圖形缺陷檢測設備Raptor-500

雙場景應用，覆蓋掩模版全生命周期

掩模制造場景：在新掩模版制作完成后及返修清潔環節，Raptor-500可快速篩查圖形缺陷，指導客戶后續修復及清洗工序，避免因漏檢關鍵缺陷導致的下游客戶晶圓報廢，顯著提升掩模版出貨質量，降低客戶生產成本。

晶圓生產場景：通過監控掩模版入廠狀態及定期健康狀態檢測，提前預警污染及霧狀缺陷（Haze）風險，助力產線光刻工藝良率，保障晶圓制造穩定性。

御微掩模全生命周期質量控制產品布局

降本增效，構建國產檢測生態閉環

御微半導體作為國內特色深耕掩模質量控制的高新技術企業，持續布局“掩模全生命周期質控”全面解決方案，以滿足掩模制造及晶圓生產需求。御微先后發布了i6R系列產品（掩模出貨及光刻前后質量控制）及Halo系列產品（空白基版質量控制），并已逐步成為行業相關工序的標桿裝備。本次發運的Raptor-500是御微掩模質量控制的第三款核心設備，Raptor-500與i6R及Halo產品協同，提供從基版到成品的“一站式掩模零缺陷”解決方案。Raptor產品系列采用模塊化架構設計兼具高性能，高產率及高延展性，可分擔高成本設備產能壓力，幫助客戶降低運營成本，并可長期為客戶制程升級提供價值。

御微使命，國產替代進程再加速

御微Raptor產品事業部總經理聶秋平表示：“Raptor-500產品可以為業界提供滿足成熟制程需求的掩模版圖形缺陷檢測解決方案。該設備填補了相關檢測設備的長期市場空白，并且可用更有競爭力的成本替換客戶現有設備產能，從而降低客戶運營成本，提升客戶產品競爭力。”

御微公司總經理王帆博士稱：“我們很高興可以為廣大掩模版以及晶圓制造客戶提供一款極具競爭力的掩模版質量管控設備。Raptor-500產品是御微在掩模全生命周期質量控制整體解決方案中重要的一環，配合i6R和Halo形成一站式掩模零缺陷檢測監管和質量控制標準，能夠更好地為產業客戶提供價值。”

大鵬展翅，御風而行

御微將持續加大研發投入，深入剖析客戶痛點和需求，不斷開發出滿足客戶要求的新產品，夯實掩模版全生命周期質量管控產品線，填補國內相關半導體設備領域的空白，為廣大客戶創造更高價值。

關于御微半導體

御微半導體技術有限公司聚焦半導體檢測與量測設備研發，致力于為晶圓制造、掩模版制造及封裝領域提供高精度解決方案。公司已獲多項國家級專精特新企業認證，產品覆蓋國內主流半導體廠商，設備累計出貨量超百臺。

撰稿：歸文斌