2022年7月28日，御微半導體首臺全自動掩模缺陷檢測設備i6R-300順利發運國內集成電路先進制程生產線。

御微半導體自主研發的i6R-300掩模缺陷檢測設備是基于已被業界廣泛認可i6R-100和i6R-200掩模缺陷檢測設備的進一步升級開發。i6R-300采用高精度明暗場雙檢測系統，可以快速高效地同時檢測光掩模多個表面上的細微缺陷，并提供缺陷分類、全景檢視等功能，為工藝過程控制提供關鍵數據。為提高生產效率，i6R-300檢測設備滿足完整的SEMI 自動化標準，可靈活對接OHT和AGV等工廠自動化工具。除檢測功能外，i6R-300還提供了光罩清潔和多類型掩模支持的一站式解決方案，能夠靈活滿足不同客戶工藝管控的需求。

御微半導體i6R-300掩模缺陷檢測設備

i6R-300是御微半導體推出的用于集成電路先進制程領域的新一代掩模缺陷檢測設備，進一步豐富了御微半導體現有的掩模檢測設備產品線。御微半導體將致力強化核心技術，不斷提升研發、設計、制造能力，持續以優質的產品和全面的服務為客戶創造價值。

關于御微

御微半導體是一家以市場和技術雙輪驅動，為集成電路制造提供先進裝備的科創企業。公司面向集成電路制造、先進封裝、化合物半導體、新型顯示等領域，為客戶提供具有競爭力的產品及技術解決方案。公司聚焦于集成電路光學量檢測系統設計與系統集成，圍繞集成電路裝備自主化，已經形成了掩模版檢測、晶圓檢測、泛半導體檢測、晶圓測量等4大領域6大類量檢測產品。深耕技術實力、提高產品性能，豐富產品類型，促進國內半導體設備產業健康快速發展，為客戶不斷創造價值。